[A+] [신소재] 박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>
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작성일 20-12-01 10:21본문
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각각의 스퍼터링 기술 마다 공definition characteristic(특성)이 달라 그에 따른 공정을 선택하여 제품을 생산하고 있다.
1. 목 적
레포트 > 공학,기술계열
목차
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박막증착,박막,스퍼터링,CVD,나선운동
설명
5. Reference List
4. 결 론
다. 이와 같은 스퍼터링 공정 중 대표적인 스퍼터링 기술은 Magnetron 스퍼터링법 이라고 할 수 있는데 Sputtering Target 뒷면에 자장을 인가하여 Plasma 내의 전자가 자장의 방향과 수직으로 나선운동을 하면서 Target 주위로 집중되도록 하는 방식으로 Sputtering Target 주변에 높은 밀도의 Plasma 형성할 수 있으므로 Sputtering 공definition 단점인 낮은 증착 속도를 높일 수 있어 대부분의 Sputtering 공정에서 이용되고 있는 추세이다.
3. CVD
순서
Sputtering
본문내용
2. Sputtering
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최근 많이 이용되고 있는 박막증착 기술 스퍼터링과 CVD란 무엇이며 최근 산업동향을 조사한 보고서입니다 [참고자료(data)] ․ 어플라이드사이언스(주)
1. 목 적
․ 구글, 네이버, 다음 검색 - 키워드 ‘스퍼터링, CVD
최근 많이 이용되고 있는 박막증착 기술 스퍼터링과 CVD란 무엇이며 최근 산업동향을 조사한 보고서입니다 [참고자료] ․ 어플라이드사이언스(주) ․ 구글, 네이버, 다음 검색 - 키워드 ‘스퍼터링, CVD
Sputtering 공정과 CVD 공정을 배워 보았는데 현재 산업의 Sputtering과 CVD 공definition 동향과 이용되는 산업에는 무엇이 있는지 조사하고 자신의 theory(이론)을 바탕으로 알아보
[신소재] 박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>
스퍼터링(Sputtering)은 PVD에 해당하는 증착법 중의 하나이다. theory(이론)적으로 배웠던 스퍼터링의 종류에 DC planar diode 스퍼터링, Triode 스퍼터링, Magnetron 스퍼터링, RF 스퍼터링, Ion beam 스퍼터링 기술 등이 있다.